近日，合肥產(chǎn)投已投企業(yè)御微半導(dǎo)體技術(shù)有限公司自主研發(fā)的國內(nèi)首臺(tái)滿足90nm以上制程掩模圖形缺陷檢測(cè)設(shè)備Raptor-500，正式發(fā)運(yùn)并交付國內(nèi)領(lǐng)先掩模版制造廠商。該設(shè)備的成功交付，標(biāo)志著御微半導(dǎo)體在核心檢測(cè)設(shè)備領(lǐng)域?qū)崿F(xiàn)關(guān)鍵突破，為成熟制程掩模質(zhì)量控制提供極具競(jìng)爭(zhēng)力的國產(chǎn)化解決方案。

掩模版，又稱“光罩”或“Photomask”，是集成電路光刻工藝的“母版”，其質(zhì)量直接影響晶圓良率。單個(gè)掩模圖形缺陷即可導(dǎo)致整批晶圓報(bào)廢，因此掩模版圖形缺陷檢測(cè)設(shè)備需實(shí)現(xiàn)關(guān)鍵缺陷100%的檢出率。

“Raptor-500產(chǎn)品填補(bǔ)了相關(guān)檢測(cè)設(shè)備的市場(chǎng)空白，可為業(yè)界提供滿足成熟制程需求的掩模版圖形缺陷檢測(cè)解決方案。”御微Raptor產(chǎn)品事業(yè)部負(fù)責(zé)人介紹，該設(shè)備基于御微在高精密半導(dǎo)體光學(xué)設(shè)備領(lǐng)域的技術(shù)積淀，創(chuàng)新融合“高分辨率透射+反射雙光路同步紫外成像技術(shù)”, “納米級(jí)運(yùn)動(dòng)控制技術(shù)“及”超大規(guī)模圖像計(jì)算技術(shù) ”，可精準(zhǔn)識(shí)別掩模版制造及光刻工藝使用周期中的圖形缺陷與污染物，滿足掩模廠與晶圓廠的全鏈條質(zhì)控需求。 

在新掩模版制作完成后及返修清潔環(huán)節(jié)，Raptor-500可快速篩查圖形缺陷，指導(dǎo)客戶后續(xù)修復(fù)及清洗工序，避免因漏檢關(guān)鍵缺陷導(dǎo)致的下游客戶晶圓報(bào)廢，顯著提升掩模版出貨質(zhì)量，降低客戶生產(chǎn)成本。同時(shí)，在晶圓生產(chǎn)場(chǎng)景中，通過監(jiān)控掩模版入廠狀態(tài)及定期健康狀態(tài)檢測(cè)，提前預(yù)警污染及霧狀缺陷（Haze）風(fēng)險(xiǎn)，助力產(chǎn)線光刻工藝良率，保障晶圓制造穩(wěn)定性。

作為國內(nèi)一家深耕掩模質(zhì)量控制的高新技術(shù)企業(yè)，御微半導(dǎo)體持續(xù)布局“掩模全生命周期質(zhì)控”全面解決方案，以滿足掩模制造及晶圓生產(chǎn)需求，先后發(fā)布了i6R系列產(chǎn)品（掩模出貨及光刻前后質(zhì)量控制）及Halo系列產(chǎn)品（空白基版質(zhì)量控制），已逐步成為行業(yè)相關(guān)工序的標(biāo)桿裝備。本次發(fā)運(yùn)的Raptor-500是御微掩模質(zhì)量控制的第三款核心設(shè)備，Raptor-500與i6R及Halo產(chǎn)品協(xié)同，提供從基版到成品的“一站式掩模零缺陷”解決方案。 

合肥在線-合新聞 記者 李后祥